رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار

رسوب دهی شیمایی از فاز بخار روشی موثر جهت لایه نشانی طیف وسیعی از قطعات لایه نازک است. در این روش لایه نازک طی یک یا چند واکنش شیمایی در فاز گازی بر روی بستر در دمای بالا تشکیل می شود. مزایایی همچون ساخت قطعات با خلوص بالا و ضخامت یکنواخت، سرعت رسوب دهی خوب و توانایی رسوب دهی گستره وسیعی از مواد باعث استقبال پژوهشگران از این روش شده است.

دستگاه رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار (CVD) موجود در آزمایشگاه مرکزی هسته پژوهشی نانو دارای مشخصات زیر است

- خلآ تا ^6-10

-سه ناحیه مجزای حرارتی